Тональна основа-стік ENOUGH Collagen 3x moisture Stick Foundation # 21N 14g

Стійкий макіяж, без скочування, розтікання та сухості, рівний тон обличчя, приємне сяйво забезпечить нова тональна основа бренду ENOUGH.

Бездоганна якість складових гарантують якісний догляд за шкірою обличчя, без висипань і подразнення. Одним із вухолових компонентів б'юті-продукту є гідролізований колаген, який виступає ключовим складником для збереження пружності, м'якості та еластичності дермального покриву.

Професійний бренд ENOUGH пропонує тональну основу-стік для створення якісного стійкого макіяжу в домашніх умовах.

Застосування: рівномірно нанести тон на шкіру.

Склад: Titanium dioxide, triethylhexanoin, octocrylene, ethylhexyl methoxycinnamate, synthetic wax, mica, octyldodecanol, polyglyceryl-2 triisostearate, C12-15 alkyl benzoate, diisostearyl. Maleate, ethylhexyl salicylate, dimethicone, bis-ethylhexyloxyphenolmethoxyphenyltriazine, microcrystalline wax, yellow iron oxide, butylmethoxydibenzoylmethane, caprylic/capric triglyceride, poly. Methyl silsesquioxane, purified water, dipropylene glycol, aluminum hydroxide, talc, glycerin, sorbitan sesquioleate, triethoxycaprylyl silane, red iron oxide, black iron oxide, fragrance, stearalkonium Hectorite, 1,2-hexanediol, caprylyl glycol, butylene glycol, polyglyceryl-10 oleate, hydrogenated lecithin, propylene carbonate, oil-soluble licorice extract, adenosine, ethylhexylglycerin, BHT. , hydrolyzed collagen (20 ppm), soluble collagen (10 ppm), sodium citrate, phenoxyethanol, hyaluronic acid, atelocollagen (0.3 ppm)