Тональна основа-стік ENOUGH Collagen 3x moisture Stick Foundation # 13N 14g

Універсальна тональна основа Collagen 3x moisture Stick Foundation створить на шкірі рівномірне ідеальне покриття, приховає нерівності на обличчі, додасть матовість і забезпечить стійкий макіяж.

Зручна форма стіка дає змогу наносити засіб дуже тонко, рівномірно, що дає змогу уникнути скочування тональної основи. Гідролізований колаген надає підтягувальний ефект для епідермісу, покращує пружність шкірного покриву, нормалізує водний баланс.

Революційна тональна основа у вигляді стіка корейської фірми ENOUGH вирівнює тон шкіри, ефективно усуває дію сонячних променів. У магазині Cosmic можна придбати косметичну продукцію за оптовими цінами. Доставка здійснюється по Україні.

Застосування: на підготовлену шкіру нанести засіб акуратними рухами і розтушувати його.

Склад: Titanium dioxide, triethylhexanoin, octocrylene, ethylhexyl methoxycinnamate, synthetic wax, mica, octyldodecanol, polyglyceryl-2 triisostearate, C12-15 alkyl benzoate, diisostearyl. Maleate, ethylhexyl salicylate, dimethicone, bis-ethylhexyloxyphenolmethoxyphenyltriazine, microcrystalline wax, yellow iron oxide, butylmethoxydibenzoylmethane, caprylic/capric triglyceride, poly. Methyl silsesquioxane, purified water, dipropylene glycol, aluminum hydroxide, talc, glycerin, sorbitan sesquioleate, triethoxycaprylyl silane, red iron oxide, black iron oxide, fragrance, stearalkonium Hectorite, 1,2-hexanediol, caprylyl glycol, butylene glycol, polyglyceryl-10 oleate, hydrogenated lecithin, propylene carbonate, oil-soluble licorice extract, adenosine, ethylhexylglycerin, BHT. , hydrolyzed collagen (20 ppm), soluble collagen (10 ppm), sodium citrate, phenoxyethanol, hyaluronic acid, atelocollagen (0.3 ppm)