Заспокійлива тканинна маска з екстрактом голок сосни ROUND LAB PINE CALMING CICA MASK_27ml
- Виробник:Round Lab
- Артикулtk-25728
- Наявність:Є в наявності
- Сума мінімального замовлення складає 3990 грн
- 67 ₴
- +1 бонусних ₴
Заспокійлива тканинна маска з екстрактом голок сосни Round Lab
Pine Calming Cica Mask — інтенсивна зволожувальна і заспокійлива терапія, яка
поєднує силу природи та сучасні біоактивні компоненти для глибокого відновлення
шкіри. В її основі — екстракт хвої Pinus Densiflora, який має антисептичні та
детокс-дії, допомагає зменшити подразнення та підтримує чистоту пор.
Три форми гіалуронової кислоти — звичайна, гідролізована та
натрієва сіль — створюють ефект глибокого зволоження на різних рівнях шкіри,
утримуючи вологу й надаючи обличчю пружності. Гліцерин, бутиленгліколь і
пропандіол додатково пом’якшують та живлять епідерміс.
Особливу увагу заслуговує комплекс Centella Asiatica:
азіатікозид, мадекассова кислота, мадекасосид, які ефективно заспокоюють
чутливу або пошкоджену шкіру, стимулюють загоєння та зміцнюють бар’єрні
функції. А екстракт портулаку, червоних водоростей Chondrus Crispus та
гліцопротеїни живлять шкіру, сприяють її оновленню та підвищенню тонусу.
Завдяки м’якій основі з натуральних згущувачів маска
комфортно прилягає до обличчя, передаючи активні компоненти в глибокі шари
дерми. Ідеально підходить для зволоження, заспокоєння, відновлення після стресу
або косметичних процедур.
Доступні і оптові ціни на засоби від бренду Round Lab інтернет-магазині
Cosmic.
Застосування: очистіть шкіру, відкрийте упаковку, зніміть
плівку з маски, нанесіть на обличчя та залиште на 10 хвилин. Зніміть маску, а
есенцію, що залишилася, вбийте у шкіру подушечками пальців.
Склад: Water, Pinus Densiflora Leaf Extract, Glycerin,
Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Centella Asiatica Extract, Hyaluronic Acid,
Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate, Butylene Glycol, Portulaca
Oleracea Extract, Propanediol, Chondrus Crispus, Ethylhexylglycerin,
Biosaccharide Gum-1, Glycoproteins, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate,
Tromethamine, Polyglyceryl-4 Caprate, Asiaticoside, Asiatic Acid,
Madecassoside, Madecassic Acid, Polyglyceryl-6 Caprylate, Capryloyl Salicylic
Acid, Hydroxyethylcellulose, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone, Disodium
EDTA, Xanthan Gum, Carbomer.
Активні компоненти | екстракт голок сосни, екстракт центелли та її похідних (мадекассосід, мадекасинова кислота, азіатикова кислота, азіатикозид), глікопротеїн |
Об'єм | 27 мл |
Вік | 18+ |
Клас косметики | міддл маркет |
Країна-виробник товару | Південна Корея |
Призначення | відновлення, живлення, зволоження |
Стать | для жінок |
Тип засобу | тканинна маска для обличчя |
Тип шкіри | для всіх типів |
Заспокійлива тканинна маска з екстрактом голок сосни Round Lab
Pine Calming Cica Mask — інтенсивна зволожувальна і заспокійлива терапія, яка
поєднує силу природи та сучасні біоактивні компоненти для глибокого відновлення
шкіри. В її основі — екстракт хвої Pinus Densiflora, який має антисептичні та
детокс-дії, допомагає зменшити подразнення та підтримує чистоту пор.
Три форми гіалуронової кислоти — звичайна, гідролізована та
натрієва сіль — створюють ефект глибокого зволоження на різних рівнях шкіри,
утримуючи вологу й надаючи обличчю пружності. Гліцерин, бутиленгліколь і
пропандіол додатково пом’якшують та живлять епідерміс.
Особливу увагу заслуговує комплекс Centella Asiatica:
азіатікозид, мадекассова кислота, мадекасосид, які ефективно заспокоюють
чутливу або пошкоджену шкіру, стимулюють загоєння та зміцнюють бар’єрні
функції. А екстракт портулаку, червоних водоростей Chondrus Crispus та
гліцопротеїни живлять шкіру, сприяють її оновленню та підвищенню тонусу.
Завдяки м’якій основі з натуральних згущувачів маска
комфортно прилягає до обличчя, передаючи активні компоненти в глибокі шари
дерми. Ідеально підходить для зволоження, заспокоєння, відновлення після стресу
або косметичних процедур.
Доступні і оптові ціни на засоби від бренду Round Lab інтернет-магазині
Cosmic.
Застосування: очистіть шкіру, відкрийте упаковку, зніміть
плівку з маски, нанесіть на обличчя та залиште на 10 хвилин. Зніміть маску, а
есенцію, що залишилася, вбийте у шкіру подушечками пальців.
Склад: Water, Pinus Densiflora Leaf Extract, Glycerin,
Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Centella Asiatica Extract, Hyaluronic Acid,
Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate, Butylene Glycol, Portulaca
Oleracea Extract, Propanediol, Chondrus Crispus, Ethylhexylglycerin,
Biosaccharide Gum-1, Glycoproteins, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate,
Tromethamine, Polyglyceryl-4 Caprate, Asiaticoside, Asiatic Acid,
Madecassoside, Madecassic Acid, Polyglyceryl-6 Caprylate, Capryloyl Salicylic
Acid, Hydroxyethylcellulose, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone, Disodium
EDTA, Xanthan Gum, Carbomer.