Піна для вмивання з колагеном Enough W Collagen Pure Shining Foam Cleansing 100 ml

Піна Enough W Collagen Pure Shining Foam Cleansing чудово очищує та зволожує шкіру, розчиняє складні забруднення, допомагає позбутися стійких косметичних засобів на обличчі.

До складу піни входить колаген, стеаринова, лауринова і міристінова кислоти, екстракт листя кипарису та бетаїн - ці компоненти виводять шлаки та токсини з клітин, розчиняють чорні крапки, ущільнюють епідерміс, підвищують його стресостійкість, борються із сухістю та лущенням. Екстракт морських водоростей, бджолиний віск і трегалозу відлущують омертвілі клітини, вирівнюю тон, освітлюють небажану пігментацію, живлять вітамінним комплексом, покращують мікроциркуляцію крові, дарують обличчю здорове сяйво. Сік листя алое віра та екстракт центели знімають почервоніння та подразнення, прискорюють метаболізм клітин, загоюють ранки та мікротріщинки, надають антибактеріальну дію, активізують обмінні процеси у клітинах, захищають від негативного впливу факторів навколишнього середовища. Пантенол і солі альгінової кислоти знижують кількість вільних радикалів, покращують клітинне дихання, звужують пори, попереджають фотостаріння та птоз тканин, тонізують, роблять дерму більш пружною та еластичною.

Варто замовити піну Enough для дбайливого догляду за обличчям та ретельного очищення пір. Купити її за ціною виробника та почитати відгуки можна на сайті Cosmic. Ми маємо найкращу ціну на брендову корейську продукцію.

Застосування : спініть засіб за допомогою води і нанесіть на вологу шкіру рухами, що масажують, після ретельно змийте піну .

Склад: Purified Water, Mystic Acid, Glycerin, Dipropylene Glycol, Stearic Acid, Potassium Hydroxide, Cocamidopropyl Betaine, Lauric Acid, Cericyl Stearate, Lauraid Diepyrease -100 Stearate, Phenoxy Ethanol, Fragrance, Hydroly , Niacinamide, Panthenol, Aloe Vera Forgetme Extract, Seawater, Cypress Leaf Extract, Centella Extract, Portuguese Extract, Trehalose, Honey Extract, Butylenecholyol Nicotinyl Die Pantide -23,1,2-Hexanedi Caprylyl Lysate.